专利名称： 高反射率陶瓷腔体的制备方法
公开（告）号： CN1830890
申请（专利）号： 200610066448.9
发明（设计）人： 李 强;姜梦华;丁小艇
(申请)专利权（人）： 北京工业大学
内容：（摘要）本发明属大功率固体激光器领域。现有陶瓷腔体一次成型，且釉层不含氧化钐，反射率90％，电光转换效率3％，且使输出功率受到限制。本发明步骤：制备90～110nm的氧化铝粉，用乙醇或乙醚拌成泥状，铺平模具内，每次铺设的厚度为0.8mm-1.2mm，每铺完一层均经预处理，即对氧化铝粉末加温加压，压力600-1200kg，温度500 -800℃，持续时间6-10小时，总厚度为12mm-16mm完成氧化铝腔体的成形；烧结；腔体表面加工至粗糙度小于0.1mm；退火；表面上釉，釉层材料为硫酸钡并掺氧化钐，氧化钐重量百分比为1.0-1.5 ％，制备90～100nm的硫酸钡和氧化钐粉末，将两者混合并拌成稀泥状刷于腔体表面，厚度为0.1～0.2mm，烧结。本发明使得陶瓷腔体致密性好，泵浦均匀性好、反射率高，泵浦光转换效率高。
主权项：一种高反射率陶瓷腔体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 第一步，制备粉体直径为90～110nm的氧化铝粉末，用乙醇或乙醚将氧化铝粉末拌成泥状，均匀铺平于已设计好的陶瓷腔体模具内，每次铺设的厚度为0.8mm-1.2mm，每铺完一层，均经预处理，即对氧化铝粉末加温加压，压力范围为600-1200kg，温度范围500- 800℃，持续时间6-10小时，铺设总厚度为12mm-16mm完成氧化铝腔体的成形； 第二步，对成形的氧化铝腔体进行烧结； 第三步，氧化铝陶瓷腔体腔体表面在磨床上对陶瓷腔体表面进行加工，表面粗糙度小于0.1mm； 第四步，表面加工后的氧化铝陶瓷腔体进行退火处理； 第五步，氧化铝陶瓷腔体表面上釉，釉层材料为硫酸钡并掺氧化钐，氧化钐重量百分比为1.0-1.5％，制备粉体直径为90～100nm的硫酸钡粉末和氧化钐粉末，用乙醇或乙醚将两者混合并拌成稀泥状，均匀刷于氧化铝陶瓷腔体表面，厚度为0.1～0.2mm，置于烧结炉内烧结。
